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PECVD系统\化学气象沉积设备

  • 电炉类型:高温电炉
  • 电阻炉名称:PECVD系统\化学气象沉积设备
  • 电阻炉类型:实验电炉
  • 电阻炉品牌:SGM
  • 电阻炉规格:
  • 电阻炉温度:
  • 实验电炉价格:议价起
  • 咨询热线:400-600-3293

成仪PECVD系统

PECVD

 

西格马SGMPECVD系统(PE-12100C)

PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积(CVD)反应温度降低,在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统(PECVD)。

该型号PECVD为西格马SGM*新款,综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点,在PECVD前端加入了气体预热区,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了西格马SGM自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。

PECVD设备主要特点:

1、气体预热——增加前端气体预热区,沉积速度更快,成膜效果更好;

2、AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控,协调控制——西格马SGMAIO控制系统;

3、管内压力自动平衡——管内压力实时监测,自动平衡管内压力。

4、智能气路通断——每路气体均可定时通断,省时省力;

5、射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,自动运行;

6、炉膛移动速度可调——根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度可距离;

7.、整机结构融为一体——移动方便,避免分散组装的困扰。

 

PECVD设备详细参数:

 

加热炉部分

1

炉膛模式

开启式炉膛

2

显示模式

7英寸触摸屏

3

极限温度

1400℃

4

工作温度

≤1350℃

5

升温速率

建议10℃/MinMax:30℃/Min

6

加热温区

3温区

7

单温区长度

150mm

8

炉管规格

100*2000mm

9

控温精度

±1℃

10

密封方式

快速法兰密封

11

温度曲线

30段"时间—温度曲线"任意可设

12

预存曲线

可预存15条温度曲线

13

超温报警

14

过流保护

15

断偶提示

16

测温元件

s型热电偶

17

炉膛材料

氧化铝纤维

18

外形尺寸

2600*860*1400MM

 

射频电源功率

1

信号频率

13.56MHz±0.005%

2

功率输出范围

5W-300W

3

功率稳定度

±0.1%

4

谐波分量

≤-50dbc

5

供电电压

单相交流(187V-253V)频率50/60HZ

6

整机效率

>=70%

7

功率因素

>=90%

8

冷却方式

强制风冷

9

真空部分

10

工作电电压

220V±10%50~60HZ

11

功率

500W

12

抽气速率

4Ls

13

进气口口径

KF25

14

排气口口径

KF25

15

转速

1450rpm

16

噪音

55dB

17

极限真空

4X10-2Pa

 

气路系统

1

1,2气路采用DB07K系列

准确度:±1.5%

重复精度:±0.2%

响应时间:气特性:1~4Sec,电特性:10Sec

工作压差范围:0.1~0.5MPa

2

3路采用高精度CS200系列

准确度:±0.35%FS±1.0%SP

线性:±0.5%FS

重复精度:±0.2%FS

响应时间:气特性:1Sec

 
 

整机系统特色

1

正压测量

-100Kpa---100Kpa

2

真空测量

10-2Pa~100Kpa(支持Ar测量)

3

正压保护

支持

4

压力恒定

支持

5

智能气路

支持

6

气路定时

支持

7

射频工作时间设定

支持

8

移动速度调节

支持

9

系统真空度

4.8×10-3Pa

 

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指 等离子体增强化学的气相沉积法。这种方法有很多优点,比如成膜质量好等。

 

报价

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