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1200小型快速退火炉:碘钨灯管加热炉

文章出处:洛阳西格马高温电炉有限公司 人气:198 发表时间:2021-03-23

RTP/1200度小型快速退火炉(RTP/RTA)为洛阳西格马高温电炉生产的快速退火炉。  快速退火炉一般都是以碘钨灯管为发热元件,升温速度极快,采用S型热电偶测温并采用国际的模糊PID控制,具有很高的控温精度〈±5℃〉,快速退火炉 具有真空装置,可在多种气氛下工作。大大提高了其使用范围。

退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢氮混合气等);真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);

小型快速退火炉采用红外卤素灯快速加热。卤素灯与碘钨灯区别?碘钨灯是卤素灯的一种

快速退火炉技术参数:

电炉名称 单位 型号
RT4/180-9 RT4/220-9 RT4-300-9
额定功率 KW 180 220 300
额定电压 V 380
工作温度 950
炉膛
尺寸
mm 2100 2500 3000
mm 1050 1300 1500
mm 750 900 1200
加热元件接法   Y
空炉升温时间 h 2-3
控温精度 ±1
大装载量 Kg 5000 7000 11000
重量 Kg 5600 8500 920

小型快速退火炉特点:

可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;

温控精度高;

无须配置冷水机;

无须使用三相电,普通实验室单相电即可使用;

紧凑的台式设计;

仪器操作方便,样片装取容易;

适合高校或研究所科研使用;

价格合理,高性价比;

 

应用领域:

快速热退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);

快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);

快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);

扩散 (Diffusion);

硅化 (Silicidation);

化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

离子注入后退火 (Implant Annealing);

电极合金化 (Contact Alloying);

晶体化和致密化 (Crystallization and Densification);

合金熔点分析;

薄膜沉积;

等等…

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